为什么中国造不出光刻机，为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？

光刻机中国一直都在制造，中国早在上世纪70年代就开始研制光刻机，比很多国家都早为什么中国造不出光刻机。

但是，现实是中国独立研制的光刻机现在最多只能达到90nm的精度，相对于国际上5nm的先进水平，差距可以说至少有二三十年。

中国现在有公司提供20nm左右精度的光刻机，那是用了人家的二手设备来翻新的，这的确算是一条好的路径，但说不上是独立自主的道路。

一项高端技术的突破，往往意味着有无数的底层基础技术的突破，就好像一个“金字塔”。基础没修好，只修塔尖，那是“空中楼阁”，不可能实现。而要突破无数个底层基础技术，甚至牵涉到你、我、他人才输送（所以别总是埋怨“科学家”，大家都有责任），数十年时间都未必实现得了，特别是路子走得不对的话，永远突破不了也不奇怪，想想我们数千年的历史，突破了多少基础技术？清朝的独立自主技术比两千年前的秦国多多少？

光刻机是人类高端科技的集合体，现在ASML公司的高端光刻机一台售价高达5亿美元左右，可见成本之高。对于我们，如果当中成千上万的组件都要独立研发，由于产量少分摊多，光分摊研发成本恐怕就远不止这个数。而每一个组件可能又是又成千上万的更小组件构成，小组件又由更小零件构成……追究下去最后还是落到了基础材料、人才、资金和技术积累上，这就是“金字塔”的基础。这要全社会的人力、财力、时间还要加上有效率的机制配合才行，根本急不来。而且，芯片厂的实力也是个制约，台积电、三星新一代制程的工厂投资，起步就是250亿美元，我们从90nm过渡到5nm，这中间跨越七八代，得多少投资啊！而且我们还面临很多现实的问题：专利壁垒、有钱买不到技术和设备、开发出来了人家就会低价竞争。

虽说差距甚大，但我们也不必气馁。受限于“量子效应”，光刻机的发展就快到天花板了：原子的直径也就0.5nm左右，芯片的线路再小，就变成不连贯（一份份的量子）的了，“量子”本身存在漂移和不确定性，都会是芯片的发展瓶颈（新一代投资大增、失败几率也大增主要也是这个原因）。

前面止步不前，只要我们认清差距，奋起直追，还是有希望赶上的。芯片这种科技，要的是实干，容不得半点虚假，整天大吹大擂，蒙蔽自己，只会浪费时间。

2002年SMEE成立，是中国政府为了填补光刻机空白而立项。上海微电子装备公司总经理贺荣明去德国考察时，有工程师告诉他：“给你们全套图纸，也做不出来。”贺荣明几年后理解了这句话。

光刻机，被称为现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

随着美国制裁华为事件，光刻机走进我们的视野，别的不多说，下面简单说个逻辑，相信大家就都能明白了。荷兰ASML公司是为台积电提供光刻机的垄断供货厂商，中芯国际想买ASML公司的光刻机却买不到，台积电与中芯国际为合作竞争对手关系，而最后它们均为华为供货。

曾经有业内人士称，毫不夸张地说，光刻机的制造难度甚至不亚于原子弹。

光刻机有多难造？全世界可以制造光刻机的厂商寥寥可数。其中，荷兰ASML公司是全球最顶尖实力最强的光刻机制造厂商，也是目前全球唯一可以制造EUV光刻机的厂商。此外，日本也有两家光刻机厂商：尼康、佳能，但是已经无法和ASML相提并论，曾经的辉煌已经日落西山，ASML垄断了全球高端光刻机的市场。

荷兰ASML为什么可以做到世界第一？事实上，在2007年以前ASML并不是行业的龙头，那时候日本的尼康、佳能纵横全球市场，所向披靡，但是2007年之后ASML接受了台积电193nm光源的浸没式系统的方案，随后ASML一举击败尼康、佳能，成为全球光刻机的霸主。

由于ASML公司处于行业的垄断地位，所以一台EUV光刻机的价格非常昂贵。据悉，目前一台ASML制造光刻机售价高达1.2亿美元，折合人民币近10亿元。光刻机被誉为“现代光学工业之花”，价格贵主要还是因为光刻机制造流程极其复杂，需要5万个零配件。曾经有业内人士称，毫不夸张地说，光刻机的制造难度甚至不亚于原子弹。

那么，谁买走了荷兰ASML公司的顶尖光刻机？据统计，2019年ASML公司共生产了26台极紫外线（EUV）光刻机，其中有一半卖给了台积电，剩余一半卖给了英特尔、三星等客户。为什么会有一半以上卖给了台积电？要知道，ASML的厉害之处在于和客户实现利益捆绑，台积电、三星、英特尔不仅是ASML的客户，还是股东，所以股东拥有优先提货权。

事实上，我国的中芯国际也曾在2018年向ASML订购了一台1.2亿美元的光刻机，但是由于种种原因，至今也没有到货的消息。所以，作为中国最先进的芯片代工厂，目前只能实现14nm芯片的量产，7nm及以下工艺制程的芯片目前还无法实现生产，和台积电之间的差距也在逐渐扩大。

要知道，荷兰ASML公司的光刻机并不是荷兰一国的技术，而是使用了全世界各领域的尖端技术。一台光刻机需要5万个零配件，而大部分零配件都需要从国外进口，比如美国的光源设备和技术，德国蔡司的镜头组件，以及日本生产的部分零配件，这些零配件都是向ASML提供的，而我们是买不到这些零配件的。

所以，目前国产光刻机的最大问题在于很多零配件无法实现制造，依然被国外技术垄断。作为中国大陆唯一的光刻机制造厂商，上海微电子（SMEE）目前可以制造90nm光刻机，和ASML的7nm光刻机相比显然还有很大差距。上海微电子成立于2002年，我们的光刻机研发起步晚了至少20年，现在追赶还来得及。

目前全球只有一家企业在光刻机市场上占据了80%的份额，就是处于荷兰的ASML，旗下所研发的EUV光刻机曾售价高达1亿美元一台，而且还不一定有货。皆因每台光刻机的装配大约需要50000个零件左右。国际上著名的芯片制造商如Intel、台积电、三星都是它名下的股东。2020年一季度ASML公司获得了73台光刻机订单，订单量大涨，其中有11台属于EUV光刻机，订单金额达到15亿欧元，一台EUV光刻机售价为1.36亿欧元，ASML的光刻机又涨价了，其中一半还是卖给了台积电！时不我待，我国要加快研发进度，加大科研资金投入力度，我们拥有市场、资金和人才，还有外部环境的倒逼，中国半导体今后将进入快速发展通道