造光刻机到底有多大难度,以目前的投入,国产光刻机还需要多久才能追上目前国际主流

追不上造光刻机到底有多大难度。

其一,艾斯麦尔的光刻机本身是国际大合作的结果,中国一个国家不可能完全重建整个生产。

其二,这种高精尖产品不仅在设计上有很多独到的经验,在生产装配上也依赖于长期培养的技工,这个是我们短期内也无法具备的

但是我们也没必要追。

其一,现在3纳米已经接近物理极限,再小就拦不住电子了,所以这种技术已经基本发展到头,我们稳稳占领七纳米,然后争取攻克5纳米就可以了,真正需要突破的是在量子技术上面。真正花很大功夫和很长时间攻克光刻机,估计这个技术到时候已经淘汰了。

其二,说到底,微电子产品投入大,研发周期长,必须加入全球大协作,在这方面,我们的思路不应该是包打所有领域,而是一方面拥有自己的强项,保证在产业链中,在市场上有自己的一席之地,另一方面是尽量维护一个开放协作的全球市场。

攻克所有技术问题,既不经济也不可能,反而会拖累我们自己的后腿和造成极大浪费,最终阻碍我们的发展。

2022-06-10

2022-06-10